紫外纳米压印胶






应用范围:

紫外纳米压印光刻胶,主要应用于半导体器件,MEMS,结构图形化转移等相关领域。

产品特征:

1、粘度低:≤ 40mPa·S;

2、光引发阳离子聚合;

3、曝光能量:2J/cm2;

4、特征尺寸:20nm。
UV Nanoimprint Resist Thickness@3500rpm Quantity/100ml Quantity/250ml Quantity/500ml
PPNIL-UV01 100nm
PPNIL-UV02 200nm
PPNIL-UV03 300nm
PPNIL-UV05 500nm NA
PPNIL-UV10 1um NA NA
 
   
    注:可根据客户需要,订制指定厚度的纳米压印胶(厚度偏差±10nm)。